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मोल्ड स्टील की जंग प्रक्रिया

Feb 07, 2020एक संदेश छोड़ें

बाहरी मीडिया की कार्रवाई के तहत धातु को धीरे-धीरे क्षतिग्रस्त होने वाली घटना को संक्षारण कहा जाता है। मूल रूप से संक्षारण, रासायनिक संक्षारण और विद्युत रासायनिक संक्षारण के दो रूप हैं। उत्पादन में आने वाले जंग मुख्य रूप से विद्युत रासायनिक जंग है। रासायनिक संक्षारण में कोई करंट उत्पन्न नहीं होता है और संक्षारण प्रक्रिया के दौरान कुछ संक्षारण उत्पाद बनते हैं। यह जंग उत्पाद आमतौर पर धातु की सतह पर कवर होता है ताकि धातु को माध्यम से अलग करने के लिए फिल्म बनाई जा सके। यदि रासायनिक उत्पादों की यह परत स्थिर, घनी, पूर्ण और दृढ़ता से धातु की सतह परत के साथ संयुक्त है, तो यह जंग के आगे विकास को रोकने या यहां तक ​​कि धातु की रक्षा को बहुत कम कर देगा। एक सुरक्षात्मक फिल्म बनाने की प्रक्रिया को पैशन कहा जाता है। उदाहरण के लिए, SiO2, Al2O3, Cr2O3 और अन्य ऑक्साइड फिल्में बनती हैं। ये ऑक्साइड फिल्म संरचनाएं घनी, पूर्ण, गैर-ढीली, गैर-दरार और छीलने में आसान नहीं हैं, जो आधार धातु की रक्षा कर सकती हैं और आगे ऑक्सीकरण को रोक सकती हैं। उदाहरण के लिए, Fe2O3 तब बनता है जब उच्च तापमान पर लोहे का ऑक्सीकरण होता है। इसके विपरीत, कुछ ऑक्साइड फिल्में बंद या छिद्रपूर्ण होती हैं, और बेस मेटल की रक्षा नहीं करती हैं। कुछ धातु ऑक्साइड, जैसे कि Mo2O3 और WO3, उच्च तापमान पर अस्थिर हैं और सबस्ट्रेट को कवर करने का सुरक्षात्मक प्रभाव नहीं है।

यह देखा जा सकता है कि ऑक्साइड फिल्म की पीढ़ी और ऑक्साइड फिल्म की संरचना और गुण रासायनिक संक्षारण की महत्वपूर्ण विशेषताएं हैं। इसलिए, धातुओं की रासायनिक प्रतिरोध में सुधार करने की क्षमता मुख्य रूप से मिश्र धातु या अन्य तरीकों से बनती है, धातु की सतह पर एक स्थिर, पूर्ण, घने, और दृढ़ता से बंधी ऑक्साइड फिल्म का निर्माण करती है, जिसे एक पैशन फिल्म के रूप में भी जाना जाता है। विद्युत संक्षारण धातु संक्षारण का एक महत्वपूर्ण और सार्वभौमिक रूप है। यह विभिन्न धातुओं या धातु के विभिन्न खांचे के बीच इलेक्ट्रोड क्षमता में अंतर के कारण होता है। यह गैल्वेनिक सेल जंग माइक्रोस्ट्रक्चर के बीच उत्पन्न होता है, इसलिए इसे माइक्रोसेल जंग भी कहा जाता है। विद्युत रासायनिक संक्षारण एक ढांकता हुआ, विभिन्न धातुओं, धातु सूक्ष्म क्षेत्रों या चरणों के बीच संचार या संपर्क में संभावित अंतर की उपस्थिति की विशेषता है, और एक संक्षारण प्रवाह उत्पन्न होता है।


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